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部件
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组成及规格
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真空室
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数目
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单室结构
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材料
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奥氏体不锈钢（304不锈钢）焊接而成
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形式
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方箱形结构前门开启，配F100观察窗可开启
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尺寸
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300×300×400mm。
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顶盖密封
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氟橡胶密封。
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接管类型
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包含两个真空规管接口、若干磁控溅射靶接口、一个高真空阀门接口、一个预抽管道接口、一个观察窗接口、三个充气阀门接口、三个操作机构接口以及两个电气引入接口等。
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开启方式
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正面开启
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照明/烘烤
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采用碘钨灯照明、2只1000W碘钨灯烘烤、烘烤温度200℃以内。
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真空获得系统
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主泵
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分子泵（620L/S）一台。
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预抽泵
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6L/S旋片式机械泵一台。
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前级泵
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阀门
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①高真空阀门采用超高真空（CF150一只）；②预抽阀门采用超高真空角阀（GD-J40一只）；③放气阀门采用超高真空截止阀（GQ-4三只）。
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电磁充气阀两只。
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管道/接头
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精密不锈钢管、压波纹管构成、快卸接头以及双卡套接头一批。
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真空测量系统
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复合真空计（1×10 ~1×10 Pa），规管采用全金属裸规（ZJ-52+ZJ2）
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蒸发系统
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电阻蒸发源
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5只水冷蒸发电极，可共蒸（选配可以切换）
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安装位置
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真空室底板。
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电源
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电阻蒸发电源两套其中一套可切换，最大电流300A，数显。
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高压清洗（选配）
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直流高压清洗，最大电压3000V，电流160mA。
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挡板操作
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直接转轴三只。
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基片系统
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基片尺寸/数量
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直径£100mm，1块
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基片旋转
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自转，转速30~120转/分。
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靶基距
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250-300mm可调
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基片加热
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可加热300℃以下，带水冷。
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温度控制
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PID控制：精度±1℃。
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偏压电源
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可选
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水冷却系统
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真空系统冷却
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分子泵冷却
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薄膜测厚仪
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水冷探头
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电极冷却
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水冷电极
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膜厚测量
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测厚仪
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配备石英晶振薄膜厚度仪一套，含水冷探头。
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控制系统
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真快控制
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真空设备、温度、真空度控制。
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机架
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结构
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型钢焊接封闭式框架。L1000×W800×H800。
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